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作者: aeks | 发布时间: 2026-02-28 00:05
学科: 光学工程 材料科学与工程 物理学 电子科学与技术
通过掺杂控制化学气相沉积，制备出高折射率（3.48）的可见光透明氢化非晶硅（a-Si:H）和强色散（阿贝数<10）的氧掺杂非晶硅（a-SiOx:H），突破了非晶硅在全可见光谱的光学损耗壁垒，提升了纳米光子器件性能。
标签: 化学气相沉积 折射率 超表面 非晶硅