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高温下III-V族半导体中的量子自旋霍尔效应:推动拓扑电子学发展

作者: aeks | 发布时间: 2025-10-25 10:59

学科: 信息与通信工程 材料科学与工程 物理学 电子科学与技术

高温下III-V族半导体中的量子自旋霍尔效应:推动拓扑电子学发展

量子自旋霍尔效应是拓扑绝缘体的重要特性,能实现无耗散自旋极化边缘传输,但此前受限于低操作温度等问题难以应用。本研究在InAs/GaInSb/InAs三层量子阱中实现了该效应,工作温度达60开尔文,稳定性良好,为下一代拓扑电子器件开发奠定基础。

标签: 三层量子阱 拓扑电子学 拓扑绝缘体 量子自旋霍尔效应