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硅晶体管的三维一体化集成

作者: aeks | 发布时间: 2026-05-29 00:05

学科: 材料科学与工程 电子科学与技术 计算机科学与技术 集成电路科学与工程

硅晶体管的三维一体化集成

本文提出一种新方法:用可卷曲转移印刷技术,将超薄单晶硅纳米膜(≤10纳米)在400℃低温下逐层堆叠,制成三维集成电路。该技术兼容芯片后道工艺,能批量制造高性能、高密度的硅基晶体管,性能接近传统前道工艺器件,为低成本研发和小批量原型验证提供了可行路径。

标签: 卷转印工艺 后道工艺兼容 无结晶体管 硅纳米膜